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反滲透純凈水設(shè)備的反滲透膜元件中常見污染物及其去除方法
| 作者：guanli 日期：2018/12/18 12:06:46 |
反滲透純凈水設(shè)備的反滲透膜元件中常見污染物及其去除方法：
1、碳酸鈣垢
當阻垢劑添加系統(tǒng)失效或酸化系統(tǒng)出現(xiàn)時，碳酸鈣可能沉積，因此應(yīng)盡快檢測碳酸鈣垢的沉淀，以防止生長晶體對膜表面造成的損害。注意：清洗液的PH值不小于2.0。
檢查使用氨水來改良PH值，硫酸或鹽酸來降低PH值。
2、硫酸鈣垢
清洗液是除去反滲透純凈水設(shè)備的反滲透膜元件表面硫酸鈣垢的比較好的方法。
3、金屬氧化垢
通過使用上述除去碳酸鈣垢的方法，可以容易地除去沉積的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。
4、硅垢
對于不與金屬或有機物共存的二氧化硅垢，只能通過水處理清洗方法除去。具體方法請可以與我公司聯(lián)系。
5、清洗液
清洗反滲透純凈水設(shè)備的反滲透膜元件時，建議使用清洗液進行水處理。在清洗前對污染物進行分析是比較重要的。詳細分析和比較分析結(jié)果。應(yīng)記錄每次清洗過程中獲得的清洗方法和結(jié)果，以便為在供水條件下尋找比較好的清洗方法。
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